9月15日，摩根大通分析师与荷兰光刻机巨头ASML管理层会面后表示，ASML正研究在2028年生产逾110部极紫外光（EUV）光刻机，以应付AI带动的需求。
ASML早前已表示，2027年的EUV光刻机产能几近售罄，当年可生产至少80部，并计划在2028年把产量提高约30%。摩根大通引述ASML管理层指，目前需求仍然“非常非常强劲”，大部分新订单已是2028年交付。
摩根大通指出，ASML目前扩大EUV产量的主要限制并非供应链，而是EUV光刻机的组装速度。另据港经报引述ASML表态，随着激光技术进步，公司目前没有需要转用马斯克支持的自由电子激光（FEL）光源方案。
客户方面，摩根大通预计，英特尔在2027年将再次成为ASML的重要客户。该行并指，今轮芯片制程对EUV的使用强度正在增加，即每枚芯片使用EUV光刻的程度提高，预计将进一步推高设备需求。
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